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公司简介：
技术优势： 作为世界一流的镀膜设备制造商，超过40年在薄膜研究、设备制造和镀膜服务方面的
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美国丹顿真空设备公司（Denton Vacuum）成立于1964年，是世界著名的真空镀膜设备生产商，总部位于美国东海岸的费城郊外的丹顿工业园。
分体会不同客户对其镀膜产品性能要求的细微差别并有针对性地提出最佳个
产品概述
丹顿真空在过去的40年中，设计、制造了数以千计的蒸发、溅射、PECVD镀膜系统，产品广泛应用于精密光学、眼视光学、微电子/半导体、光电、通讯、医疗器械等领域的科学研究、产品开发和规模生产。所有丹顿公司生产制造的镀膜设备在质量、性能、可靠性等方面都满足国际标准并获得CE/UL/CSA等国际认证。
一.Integrity® 蒸发系统
Integrity®系列是丹顿公司的旗舰产品，为世界范围内诸多知名的光学生产、研究机构所青睐。系统真空室的直径范围从660mm到2m，配置灵活，稳定可靠。可以配置多种蒸发源、辅助离子源和光学监控，采用全自动控制，实现工艺的稳定性。系统坚固耐用，维修率低，且具有远程诊断功能，实现快速技术支持后售后和服务。
二. Infinity® 蒸发系统
Infinity®系列是丹顿公司为半导体和光电领域应用特殊设计的系统。系统充分考虑半导体镀膜的特点，汇集了丹顿公司在半导体领域的多项工艺专有技术。是半导体/光电行业理想的研发和规模生产设备。系统真空室尺寸最小550mm，配置灵活，稳定可靠.可根据用户需求配置多种蒸发源、辅助离子源、晶控/光控和自动控制系统。
三. Discovery® 溅射系统 四．VOYAGER® PECVD系统 五. Explorer® 经济型蒸发/溅射系统 六．DESK IV:电镜样品制备 七. BTT IV 子系统及部件 A. 离子源 B. 零件及耗材 丹顿真空北京代表处： 地址：北京市海淀区北四环中路238号柏彦大厦1302室 邮编：100083 电话：010-82332801 传真：010-82332803
Discovery®系列自丹顿公司10年前推出以来，广受用户好评。现已有超过100台Discovery设系列遍布在世界许多著名企业和科研机构，比如摩托罗拉、英特尔、马克斯普朗克大学等。iscovery®系列产品的真空室规格从460mm到890mm，采用共焦溅射，可用小型溅射靶处理较大的样品，并能达到极好的膜厚均匀度。这种设计大大降低了客户的购买成本和运行成本。
Voyager®系统采用防腐式分子泵做为主泵，可配备预真空室、离子源及多路气体进样装置。系统采用全自动操作及控制方式。Voyager系统可用于半导体和MEMS夹层介质钝化膜镀制、类金刚石膜（DLC）、TiN等硬膜的镀制、光学干涉薄膜镀制等。
Explorer 14蒸发/溅射系统真空室直径为355毫米，可以配置成为电子束/电阻蒸发或射频/直流溅射或蒸发/溅射混合系统。是丹顿公司专门为适合研发工作需要开发的经济型设备，系统功能全面，价格合理，是研发或小批量生产的理想设备。它拥有自动化操作程序，可配备完善的生产工艺。
Desk 系列产品是丹顿公司专为SEM/STM电镜样品制备应用而研制的镀膜设备。它具有溅射和刻蚀两种工作模式。Desk IV可配置简单的机械泵抽气系统（用于碳的热蒸发或金制合金箔的溅射），也可配备涡轮分子泵抽气系统以用于超细颗粒样品制备。此系统采用全自动操作和控制方式，配有PDA，可实现远程、无线操作。
2003年新推出的BTT IV镀膜机是一套性能卓越、设计紧凑、可置于桌面运行的高真空镀膜机。其真空室直径为300mm，可被配置成蒸发系统、溅射系统，或者以上二者的组合。灵活的设计使得BTT IV成为电子显微镜样品制备及薄膜研发的理想机型。
CC-105宽束冷阴极离子源是丹顿真空专为离子辅助沉积工艺（IAD）研制的部件。CC－105既是丹顿所有光学镀膜设备的重要部件，也可作为独立产品出售。与市场上的其他离子源产品相比，CC－105的主要优势包括：100％ O2兼容性，大面积高均匀性离子束流，简单的维护和低运行成本。
丹顿真空为已安装的设备提供所有零备件及易耗产品。关键备件除美国以外，在英国和中国均有库存。
